1.장비명 : RTA System                급속열처리 시스템 2.모   델 : 특주 3.제조사 : Korea Vacuum Tech. Ltd.(Korea) 4.주요사양    - Temp. : blow 1,000℃(±2℃),  max. >60℃/sec    - Sample loading plate : Piece, 4", 6" wafer    - Heating Unit : Halogen lamp 1.5kwX15ea    - Chamber pressure : >10-3 torr    - Controll type : PC controll(full auto) 5.용도 : 6"급에 해당하는 wafer를 비롯한 기판 및 박막 급속열처리            장비로써 wafer기준 film formation, patterning 후속공정 활용장비 * RTA System을 설치완료하여 사용(예약)가능합니다. * 많은 활용부탁드립니다.